电阻率可达10－4Ω﹒cm硬度高、耐磨、耐化学腐蚀ITO透明导电薄膜玻璃

透明导电薄膜的种类有很多，但具有实际应用价值的还是氧化物膜占主导地位，例如氧化铟锡薄膜（Indium-Tin-Oxide，简称为ITO薄膜），ITO透明导电薄膜是用物理或化学的方法在基体表面上沉积得到的，基体材料一般采用超薄玻璃，故又称之为ITO透明导电薄膜玻璃。

ITO透明导电薄膜玻璃是国际上70年代初研制成功的一种新型材料，属信息产业领域广泛使用的电气、电子玻璃家族中的一员，在信息产业中有着重要的地位。透明导电薄膜玻璃作为平面显示器行业的上游产品，其应用面极广，不但是LCD（液晶显示器）中的关键组件，还可在其它高阶平面显示器中作为透明玻璃电极，并与民用消费产品（诸如建材、汽车、电视等）息息相关，其工艺更可进一步延伸为市场所需的任何导电玻璃的生产。

透明导电薄膜具有以下特性：

◾ 导电性能好，电阻率可达10－4Ω﹒cm；

◾ 硬度高、耐磨、耐化学腐蚀；

◾ 加工性能好；

◾ 可见光透过率高，可达85％以上；

◾ 对紫外线具有良好的吸收性，吸收率不小于85％；

◾ 对红外线具有良好的反射性，反射率不小于80％；

◾ 对微波具有衰减性，衰减率不小于85％。

ITO透明导电薄膜玻璃的生产有三个必备条件，即：镀膜设备、ITO靶材和透明超薄玻璃（0.4－1.3mm）。ITO透明导电薄膜制备是工艺的核心技术，它可以采用多种方法，主要有有磁控溅射法（直流磁控溅射和射频磁控溅射）、真空蒸发法（电阻加热或电于束加热）、浸渍法、化学气相沉积法、喷涂法等5种工艺。目前采用较广的是直流磁控溅射法，用该工艺进行连续镀ITO膜层，具有膜层厚度均匀、易控制、膜重复性好、稳定、适干连续生产、可镀大面积、基片和靶相互位置可按理想设计任意放置、可在低温下制取致密的薄膜层、可采用合金靶反应溅射、也可采用氧化靶直接溅射等诸多优点。该工艺适用干大规模工业化生产，ITO透明导电薄膜玻璃质量好，规格品种多，耗能低。

首先备好规定厚度尺寸的（0.4－1.3mm）超薄玻璃片，预处理经去离于水洗、超声波洁净，进入真空室后，先进行SiO2镀制，然后进入ITO镀膜室镀制ITO膜，经加热固化退火后获得成品。ITO导电膜玻璃全工艺过程均在高真空状态下洁净无尘通入Ar（氩）和O2（氧）气体，经过磁控溅射作用，在玻璃基片表面沉积氧化钢锡薄膜及加热退火后而制成。