PEN镀铜膜具有很好的耐腐蚀性，可以抵抗多种化学介质的腐蚀

PEN镀铜膜的原理
    PEN镀铜膜是一种新型的镀铜工艺，它采用了光刻、镀铜和激光等多种工艺，可以在不破坏基材表面的情况下实现高速、高效、低成本的镀铜。
PEN镀铜膜的优势
    PEN镀铜膜具有以下优势：
    1. 耐腐蚀性：PEN镀铜膜具有很好的耐腐蚀性，可以抵抗多种化学介质的腐蚀。
    2. 耐磨损性：PEN镀铜膜具有良好的耐磨损性，可以有效抵抗外界的磨损。
    3. 耐冲击性：PEN镀铜膜具有较强的耐冲击性，可以承受外界的冲击。
    4. 耐高温性：PEN镀铜膜具有较高的耐高温性，可以承受高温环境。

    PEN镀铜膜主要应用于印刷电路板、薄膜太阳能电池、液晶显示屏、集成电路、光学元件等行业，具有广泛的应用前景。

PEN介绍

 聚萘二甲酸乙二醇酯的简称PEN,外形：白色颗粒，原料加工温度 熔点:265℃，加工温度:280℃；试验前烘干温度与时间：180℃，3h；
原料保存要求：常温阴凉干燥。具有气体阻隔性能好、良好的化学稳定性，优异的耐热性能和耐紫外线辐射性能。应用：由于PEN膜的耐热性、薄膜强度较好，用于汽车传感器及绝缘零配件方面也有一定的发展前途。再者，F级绝缘膜更具有应用前景。目前PEN薄膜主要应用于磁带的基带、柔性印刷电路板、电容器膜、F级绝缘膜等方面。